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微波真空烧结设备--适用于陶瓷烧结工艺、高温气氛保护反应,如还原反应、氮化反应等
CY-WV1600C-M型 真空微波井式烧结炉
工作温度: ≤1550℃
加热空间: Ø130×120mm
微波泄漏: ≤0.01mw/cm²
CY-VA1600C-V型 微波高真空烧结炉
工作温度: ≤1550℃
加热空间: 300×340×340mm(宽×深×高)
微波泄漏: ≤0.01mw/cm²
CY-VA1600C-L型 微波真空烧结炉
工作温度: ≤1550℃
加热空间: Ø180*120mm
微波泄漏: ≤0.01mw/cm²
CY-VA1700C-L型 微波真空炉
工作温度: ≤1630℃
加热空间: Ø150*120mm
微波泄漏: ≤0.01mw/cm²
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